杭州离子束溅射镀膜机生产厂家设备用途: 用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备 结构特点: 1 靶材粒子能量高,所制备膜层更致密,与基板结合力更高 2 备有辅助离子源,可以用来清洗基板,清洗效果好; 3 易于制备熔点高的材料; 4 制备合金膜层,可以保证膜层材料比例与靶材相同; 技术指标: 1 极限真空度:5×10-5Pa; 2 考夫曼离子源:Φ30mm,0.4~1.9Kev连续可调 3 辅助离子源:Φ30mm,0.4~1.5Kev连续可调 4 四工位转靶 5 样品台:6个工位,样品尺寸≤Φ30mm 6 真空机组:分子泵+机械泵 7 工作气路:100SCCM、50SCCM杭州离子束溅射镀膜机生产厂家